奈米氧化矽拋光液

 (sio2)二氧化矽拋光液

  我司系列產品均是以nm級高純矽粉為原料,經特殊工藝由磨粒分散於介質生產而成的一種高純度拋光產品,具有優良化學機械性能的研磨產品,可廣泛用於多種材料納米級的高平坦化拋光,如:矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料磷化銦、藍寶石片、金屬不銹鋼鋁鎂合金..等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光後容易清洗等特點。以不同種類、不同粒度的拋研磨效果產品、滿足不同的加工用戶需求、磨料硬度越高顆粒越大、其磨削效率越高、加工表面光潔度越低;相反磨料硬度越低、顆粒越小,其磨削效率越低、加工表面光潔度越高。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和鹼性拋光液。

產品的特點:

  1. 高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化矽粒子達到高速拋光的目地。

    2. 粒度可控,根據不同需要,可生產不同粒度的產品。

    3. 高純度、極低的雜質含量有效減小對電子類產品的沾汙、具有良好的分散穩定性。

    4. 高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工。

拋光液()

奈米氧化矽拋光液

 

拋光液基本性質

 

粒 徑(nm)

外 觀

比 重

鹼性型號(PH9.8±0.5)

HY-8146E

100nm

乳白色液體

1.3±0.05

鹼性型號(PH9.8±0.5)

HY-8156E

104nm

乳白色液體

1.3±0.05

拋光液組成

化學性質:

危害物質成分

成分百分比

化學文摘設登記號碼    CAS No.

二氧化矽(SiO2)

40

7631-86-9

(H2O)

60

-

 應用範圍:

1、矽晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化镓拋光;磷化銦拋光;光學晶體拋光;藍寶石襯底拋光;LED襯底拋光。

2、玻璃拋光;石英拋光,CMP拋光液;金屬不銹鋼鋁鎂合金。

  裝:500 ml/瓶,20 Kg/桶。

  存:儲存溫度0~40 ,在0 以下因產生不可再分散凝膠而失效,溫度高於40 條件下儲存會促使微生物生長和加速凝膠化,縮短儲藏期。上述條件下鹼性拋光液可存放兩年左右,酸性拋光液可存放半年左右。       

 

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